极薄单层半导体迎来更优制造工艺：兼顾高质量与大规模生产
研究团队通过对化学气相沉积工艺中的溶液环境进行简单调整，在保持可扩展性的同时显著提升单层半导体质量，为下一代电子与量子器件奠定基础。
微反应器原位成像揭示二维半导体单层晶体生长机制
日本冈山大学团队在微受限反应空间内实现对单层过渡金属二硫族化物生长的实时观察，识别多种生长模式，并揭示熔融前驱体液滴在马兰戈尼效应驱动下参与物质输运的过程。
研究团队通过对化学气相沉积工艺中的溶液环境进行简单调整，在保持可扩展性的同时显著提升单层半导体质量，为下一代电子与量子器件奠定基础。
日本冈山大学团队在微受限反应空间内实现对单层过渡金属二硫族化物生长的实时观察，识别多种生长模式，并揭示熔融前驱体液滴在马兰戈尼效应驱动下参与物质输运的过程。
